之所以孫祖杰這么牛逼轟轟，敢做這樣的賭博，就是因為孫祖杰在八十年代投資啟動研究的幾款激光器，尤其是ArF193nm激光器終于在1997年開發成功，這是一個具有戰略意義的重大突破。
而最先進的極紫外光EUV技術，華國經過長期不懈的攻關，目前也已經取得了不少的成果。
之所以在光源上取得突破，原因就是華國的激光技術一直處于世界一流水準。有了不少投資，又有了明確的方向，取得發展是必然的。
華吉光電所搞出的激光器雖然功率低了一些，但是勉強可以使用，這也迫使倭美兩國不得不陸續放棄了對華國在這一領域的技術封鎖。
孫祖杰對他們取得的成功非常高興，華投緊接著又撥給他們一千萬華元資金，要求ArF193nm激光器必須達到西方同等水平。
但是光源只是光刻機一小部分，作為最尖端的機電一體化產品，華國自產的光刻機最大的問題就是套刻精度不夠和生產效率不行。
套刻精度與光刻分辨力密切相關。如果要達到0.10μm的光刻分辨力，根據33%法則要求套刻精度不低于0.03μm。
套刻精度主要與工件臺和掩模臺定位精度、光學對準精度、同步掃描精度等因素有關，定位精度、對準精度和同步掃描精度分別約為套刻精度的15～13，即0.006～0.01μm。
而提高生產效率是光刻機實現產業化的必要條件。為了提高生產效率，必須優化設計激光器輸出功率、重復頻率、曝光能量控制、同步掃描等各個技術環節，并采用先進技術盡量減少換片、步進和光學對準等環節所需時間。
要想能夠完善所有環節，必須用漫長的時間去摸索，調試，這就需要大量的投資。雖然歐派微芯出錢，各大學和幾大光學所出技術，花了無數的錢，但是因為華國整體工業實力的不足，華國國產光刻機為了提高套刻精度，還是不得不降低生產效率。
華國九十年代研發的1微米前道光刻機相比于進口產品，效率一直差得比較多，就是這個原因，所以為了提高生產效率，孫祖杰很早就想到了阿斯麥的雙工作臺。
雙工作臺系統，使得光刻機能在一個工作臺進行曝光晶圓片，同時在另外一個工作臺進行預對準工作，并在第一時間得到結果反饋，這樣生產效率可以提高大約35%，精度提高10%以上。
但是雙工件臺系統雖然僅是加一個工作臺，但技術難度卻不容小覷，對工作臺轉移速度和精度有非常高的要求。
華國工程師從磁懸浮技術得到啟示，利用華國在永磁體領域的領先，正在全力開發磁懸浮工作臺，目前實驗研究已經有了不小的突破，實驗發現精度確實有了不小的提高。
現在有了193nmArF光源，有了浸沒式光學鏡頭，又有了雙工作臺的突破，專家們經過研究認為根本沒有必要再跟著西方的技術路線亦步亦趨，歐派微芯完全可以直接攻關0.1微米左右線程的浸沒式光刻機。
因為使用193nmArF光源的浸沒式光刻機，波長直接縮短為134nm，這樣新型光刻機可以直接從0.1nm左右線程起步，再通過光學鄰近效應矯正等技術后，其極限光刻工藝節點甚至可達28nm。
要知道在1997年，此時主流的光刻機線程也不過0.25微米，采用的還是KrF248nm光源。而倭國正在研發的193nm干式光刻機線程也僅僅是0.18微米，下一步才是0.13微米，90nm。
也就是說采用另外一條技術路線的華國人有3到5年的寶貴追趕時間，有這個時間應該有機會取得突破。
只要這款光刻機被攻克，華國就很可能實現彎道超車，為此賭一把絕對是值得的，畢竟華投有了相應的技術積累。
除此之外，還有一個好處，那就是采用193nm干式光刻機到了65nm左右時，差不多快到極限了，而采用華國路線，線程可以直接到達30nm左右，都問題不大。
所以到達這段線程區間時，歐美要么更換光源全部推倒重來，要么與華國交換技術。前者需要大量投資，而后者有現成的技術，到時候除非資本家腦子短路了，否則他們一定會與華國交換專利。因此華國的技術路線，明顯才是未來，那么現在投入再多，也是值得的。
就在1998年初，更換了身份之后的孫祖杰，以華投決策小組組長的身份，出席了新型光刻機的研發動員大會，林先生也參加了這次動員大會。
這幾年林先生的研究團隊精力都放在天翼那條0.5微米芯片生產線的調試和改進上，并沒有權限知道華投在光刻機領域的那些秘密。
經過幾年的合作之后，林先生的研究團隊已經被認可，所以今天他才有資格出席今天的動員大會，參與到這款代表未來的光刻機研究。
林先生聽著長吉光電所的同志公開新型光刻機的技術方案，簡直不敢相信自己的耳朵。
什么時候內地已經攻克了浸沒式光刻機，而且有了不止一代產品，那就說明他們很早就有這個思路，并已經實現，可是他們為什么又一直保密，沒有對外公開？
不過轉而一想，林先生也意識到了什么，這些年內地的半導體工業一直在追趕，而且速度很快。
九十年代初就宣稱弄出了1微米光刻機，而到了95年已經攻克了0.5微米光刻機，所以歐美相繼對華國解禁了一部分技術封鎖，恐怕就是他們浸沒式光刻機的效果。怪不得華國人一直對自己的國產光刻機極端保密，不愿意對外公開，原來是這個原因。
這樣一來，他的興趣猛然間大了很多，他怎么也沒有想到他的思路竟然在內地已經成型，這太讓人興奮了。
尤其是當他知道孫祖杰根據他八十年代的論文，才啟動的研發時，更是高興的不得了，
“孫總助，墻里開花墻外香，我們華人能夠有這樣的追趕機會，而且我還在其中起到了一些綿薄之力，真是與有榮焉！”
孫祖杰笑著點點頭，林先生提出理論，內地科學家研發出來，然后還把理論提出者請過來幫著研究，這是一件多么讓人幸福的事情呀！
幾年以后，華國一旦取得突破，到時候就熱鬧了，美帝要么選擇華國路線；要么選擇倭國路線，無論哪一點都是他們不樂意的，而且無論哪一點都沒有桃花島的份。
這樣一來，桃花島在芯片代工業領域的領先將會受到很大的限制，這也為華投的追趕鋪平了道路。
光刻機一旦突破，就意味著電子產業的制高點被華國突破，華國將更加從容更加自信的開展其他芯片制造設備的研究，為此就算這四百億華元花光了也是值得的。
而光刻機領域的一些技術成果，同樣可以應用到其他領域，比比如聯合船舶，他們的造船技術進步很快；比如華夏重工，他們根據俄羅斯的技術轉移和華投的一些研究成果，已經研究出第一代華國五軸中心。
盡管第一代產品精度有些欠缺，但已經解決了相當一部分軍工領域的需求。華夏重工的技術突破，對于華國的軍工制造業和重大裝備制造業的意義重大。
所以孫祖杰才非常有底氣的拒絕繼續給軍產部提供資金，而且對這一類特殊商品提出了非常高的報價，有本事你們可以不買呀。
在九八年的年初，經過幾次催討，確信已經得不到撥款的軍方大佬們對此十分惱火，但是研究之后又不得不妥協。
原因就是軍工要發展，必須要購買華夏重工大量的高性能機床，這是此時華國唯一的供貨商，找書苑 www.zhaoshｕyuaｎ.coｍ而這類機床想進口更是門都沒有。
而且不僅僅華夏重工，歐派微芯和聯合超算也牛得一塌糊涂，軍工所必須的多款高端芯片，他們也必須依賴歐派微芯的制造。另外還有一些特殊涂料，他們的報價正好卡在點上，讓你氣得半死，還不買不行。
軍方的大佬們迷惑了，什么時候華投已經發展到這種程度，可以要挾軍方了？越想越窩火的大佬們，對著總裝領導大發牢騷，你們也太不爭氣了，搞軍工的竟然技術不如搞民品的企業，你們到底是干什么吃的。
總裝的領導有些苦澀，盡管這兩年撥款多了不少，但缺課太多了，他們只能把有限的資源投資到最重要的領域。
軍工芯片和高精尖的機床制造只能依賴于華投，而且不僅僅是現在，未來這種依賴性可能更加嚴重。
因為華投現在的科研投入太大了，他們的科研經費又不打一點折扣，使用效率比軍工系統高了很多，這樣一來，未來華投系企業很可能比軍工系統的同類型企業要強大的多得多。
所以總裝領導無奈的告訴軍方的大佬，咱們手下的那些親兒子已經遠不如送出去的這群野孩子，對華投系企業現在不僅要一碗水端平，而且還要更加重視，不然華投的幺蛾子會越來越多。現在孫祖杰找茬，只是要求一碗水端平，已經很不錯了，習慣就好，習慣就好。
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